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真空镀膜设备的正常工作条件
时间:2018-04-08 05:25:36 作者:管理员

真空镀膜设备主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜,具体包括很多种类,包括真空离子蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延,PLD激光溅射沉积等很多种。


那么,真空镀膜设备的正常工作条件有哪些?我们一起来看看吧:

1、环境温度:10~30℃

2、相对湿度:不大于70%

3、冷却水进水温度:不高于25℃

4、冷却水质:城市自来水或质量相当的水

5、供电电压:380V,三相50Hz或220V,单相50Hz(由所用电器需要而定),电压波动范围342~399V或198V~231V,频率波动范围49~51Hz;

6、设备所需的压缩空气、液氮、冷热水等压力、温度、消耗量均应在产品使用说明书上写明。

7、设备周围环境整洁、空气清洁,不应有可引起电器及其他金属件表面腐蚀或引起金属间导电的尘埃或气体存在。


此外,真空镀膜设备所在实验室或车间应保持清洁卫生。地面为水磨石或木质涂漆地面、无尘埃。为防止机械泵工作时排出的气体对实验室环境的污染,可采用在泵的排气口上面装设排气管道(金属、橡胶管)的办法,将气体排出室外。


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